서울테크노파크-서울과학기술대학교 공학교육거점센터

2017년 제8기

MEMS 공정 교육 계획서

2017.12.07

◎ 교육목표

- IoT 융합 신기술 인재 양성을 위하여 IoT 핵심요소 중 하나인 MEMS 공정 기술인력 양성 필요

- 이론(2일) + 실습(2일) 과정으로 교육 과정을 수립하고, 실습 위주의 교육을 실행함으로써 FAB 환경에서의 업무 경험 증대

- MEMS 공정(반도체)및 재료의 이해와 장비 교육을 통하여 실무 지식 및 활용능력 향상

- 산학 공용 장비에 대한 홍보 및 교육을 통한 장비 활용도 제고

과 정 명	MEMS 공정 실습 (Inductor 제작 및 평가)
교육정원	18명
교육장소	이론강의 : (재)서울테크노파크 304호 공정실습 : (재)서울테크노파크 FAB, 309호, 310호
수강대상	서울과학기술대학교 거점센터 참여대학 공학계열 재학생
교육기간	2017 . 12 . 26 ~ 2017 . 12 . 29 (4일)
교육내용	○ 반도체 FAB 출입 및 환경 안전교육 ○ MEMS 공정 개론 ○ MEMS 공정 단계별 이론교육 ○ 공정실습 사전 장비교육 ○ Inductor 제작공정 실습 ○ Inductor 측정 실습

◎ 교육 일정

일 자 시 간	26일(이론)	27일(이론)	28일(실습)	29일(실습)
09:00~10:00	서울테크노파크 집결	서울테크노파크 집결	Photo Lithography (via hole)	Electroplating (Inductor)
	교육 소개	이론 4
10:00~11:00
	이론 1		ICP-Echting	PR strip Seed Etching
11:00~12:00
		점심
12:00~13:00				점심
	점심	공정실습 이론교육	점심
13:00~14:00				AFM 실습
	이론 2		Sputter (Seed 증착)
14:00~15:00
		휴식		Nano 3d 실습
15:00~16:00		청정실 안전교육	Photo Lithography (Inductor)
	휴식
16:00~17:00
	이론 3			SEM 실습
			3층 측정실습
17:00~18:00
		안전교육 시험
				수료증 수여 및 설문조사

*실습의 경우 그룹편성에 따라 교육 프로그램 스케쥴이 변경

◎ 이론교육 강의

시간	강의명
26일 10:30 ~ 12:30	MEMS 공정개론 및 시장동향 (박우태 교수)
26일 13:30 ~ 15:30	Photo Lithography (안지환 교수)
26일 16:00 ~ 18:00	Deposition (옥종걸 교수)
27일 09:30 ~ 11:30	Etching Process (이상훈 교수)

◎ 추진일정

구분	내용	일정	비고
계약 체결	o 거점센터와 서울테크노파크 위탁용역 계역체결	12월 7일(목)	공학교육거점센터 서울테크노파크
참가학생 접수	o 공문발송 및 참가학생 접수	공문 12월 둘째주 발송 12월 15일(금)까지	공학교육거점센터
참가학생 확정	o 참여대학별 참가학생 인원 확정	12월 15일(금)까지	참여대학 혁신센터
교육진행	o 참가학생 교육 안내 및 공지 o 교육실시	12월 21일(목) 12월 26일 ~ 29일	공학교육거점센터 서울테크노파크