서울테크노파크

2016년 제5기

MEMS 공정 교육 계획

2016.11.21

1. 교육 내용 및 일정

◎ 교육목표

- IoT 융합 신기술 인재 양성을 위하여 IoT 핵심요소 중 하나인 MEMS 공정 기술인력 양성 필요

- 이론(2일) + 실습(3일) 과정으로 교육 과정을 수립하고, 실습 위주의 교육을 실행함으로써 FAB 환경에서의 업무 경험 증대

- 산학 공용 장비에 대한 홍보 및 교육을 통한 장비 활용도 제고

과 정 명	MEMS 공정 실습 (Inductor 제작 및 평가)
교육정원	18명
교육장소	이론강의 : (재)서울테크노파크 602호 공정실습 : (재)서울테크노파크 FAB, 309호, 310호
수강대상	서울과학기술대학교 거점센터 참여대학 공학계열 재학생
교육기간	2016. 12. 26 ~ 30 (5일간)
교육내용	○ 반도체 FAB 출입 및 환경 안전교육 ○ MEMS 공정 개론 ○ MEMS 공정 단계별 이론교육 ○ 공정실습 사전 장비교육 ○ Inductor 제작공정 실습 ○ Inductor 측정 실습

◎ 교육 일정

일 자 시 간	12월 26일 1일차(이론)	12월 27일 2일차(실습)	12월 28일 3일차(실습)	12월 29일 4일차(실습)	12월 30일 5일차(실습)
09:00~10:00			공정실습 (이론교육)	FAB입실
				ICP-RIE (Hole Etch) THB Strip Sputter
		이론3			공실관입실
10:00~11:00
			Nano-3D 실습		SEM Measurement
11:00~12:00	오리엔테이션			FAB퇴실
	점심		점심	점심	공실관퇴실
12:00~13:00		점심			점심
	이론1			FAB입실
13:00~14:00		이론4	FAB입실	Photo Lithography (Inductor)	FAB입실
			Photo Lithography (Bottom Electrode)		Electroplating (Inductor) THB Strip Cu Seed Etching
14:00~15:00
	휴식
15:00~16:00	이론2	휴식	FAB퇴실	FAB퇴실	FAB퇴실
		FAB환경 안전교육	3층 측정실습	AFM 측정 실습	수료증 수여 및 설문조사
16:00~17:00
		안전교육테스트

*실습의 경우 그룹편성에 따라 교육 프로그램 스케쥴이 변경

◎ 이론교육 강의

시간	강의명	강사
26일 12:30 ~ 14:30	MEMS 공정개론 및 시장동향	박우태 교수(서울과기대)
26일 15:00 ~ 17:00	Photo Lithography	안지환 교수(서울과기대)
27일 10:00 ~ 12:00	Deposition	옥종걸 교수(서울과기대)
27일 13:00 ~ 15:00	Etching Process	이상훈 교수(서울과기대)